您好，欢迎访问光刻加工,纳米压印,微纳结构-无锡鼎元纳米科技有限公司官网！

联系我们 | 在线留言 |

首 页 >> 标签搜索

公司概况

产品分类

联系我们

企业名称：

联系人：

电话：

手机：

邮箱：

传真：

地址：

网址 :  www.micro-graph.com.cn   

标签：光刻胶流动特性

您的当前位置： 首 页 >> 标签搜索
光刻胶流动特性为你详细介绍光刻胶流动特性的产品分类,包括光刻胶流动特性下的所有产品的用途、型号、范围、图片、新闻及价格。同时我们还为您精选了光刻胶流动特性分类的行业资讯、价格行情、展会信息、图片资料等，在全国地区获得用户好评，欲了解更多详细信息,请点击访问!

分类：

  • [公司新闻] 光刻加工光刻胶的主要技术参数有哪些？

    光刻加工光刻胶的主要技术参数有哪些？1．灵敏度（Sensitivity）灵敏度是衡量光刻胶曝光速度的指标。光刻胶的灵敏度越高，所需的曝光剂量越小。单位：毫焦/平方厘米或mJ/cm2。2．分辨率（resolution）区别硅片表面相邻图形特征
    发布时间：2018-09-27   点击次数：1198

    推荐产品

光刻加工

扫一扫 进入手机网站

网站首页关于我们新闻中心产品中心技术支持联系我们

Copyright © http://www.micro-graph.com.cn/ 无锡鼎元纳米科技有限公司 专业从事于光刻加工,纳米压印,微纳结构, 欢迎来电咨询!
  Powered by 祥云平台  技术支持：华企立方
热推产品  |  
  • 在线客服
    何经理何经理
  • 联系电话
    18013801415
  • 在线留言
    • 在线咨询
  • 何经理
    • 欢迎给我们留言
    请在此输入留言内容，我们会尽快与您联系。
    姓名
    联系人
    电话
    座机/手机号码
    邮箱
    邮箱
    地址
    地址