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新闻

[公司新闻] 光刻加工光刻胶的主要技术参数有哪些？

光刻加工光刻胶的主要技术参数有哪些？1．灵敏度（Sensitivity）灵敏度是衡量光刻胶曝光速度的指标。光刻胶的灵敏度越高，所需的曝光剂量越小。单位：毫焦/平方厘米或mJ/cm2。2．分辨率（resolution）区别硅片表面相邻图形特征
发布时间：2018-09-27 点击次数：1198

[公司新闻] 纳米压印公司为您解析纳米压印光刻加工技术

1引言由于经济原因促使半导体业朝着不断缩小特征尺寸方向发展，随之而来的技术进步导致了设备的成本以指数增长。由于成本的增长，人们对纳米压印光刻这一低成本图形转移技术的关注越来越多。通过避免使用昂贵的光源和投影光学系统，纳米压印光
发布时间：2019-01-25 点击次数：763

[公司新闻] 光刻加工的两道工序介绍

光刻加工，在精密加工中占的比重虽然不大，但由于其重要性以及不可替代性，越来越受到重视，下面来简单介绍一下光刻加工。　　光刻加工是一种主要用于制作集成电路、微型机械等的加工方法。对于高精度微细线条所构
发布时间：2019-07-18 点击次数：326

[媒体报道] 光刻加工光刻胶光刻以及显影工艺介绍

克服了普通光刻胶采用UV深宽比不足的问题，在近紫外光（365nm-400nm）范围内光吸收度很低，且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致，可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形；它还具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性；在受到紫外辐射后
发布时间：2017-12-14 点击次数：400

[媒体报道] 光刻胶是什么？光刻加工为您大揭底

光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist，又翻译为抗蚀剂、光阻等。广泛应用于集成电路(IC)，封装(Packaging)，微机电系统(MEMS)
发布时间：2018-10-08 点击次数：277

[媒体报道] 光刻加工光刻胶的特点有哪些？

光刻加工光刻胶产品特点：1.光刻胶种类齐全，可以满足多种工艺要求的用户。产品种类包含：各种厚度的紫外光刻胶（正胶或负胶），lift-off工艺用胶，LIGA用胶，图形反转胶，化学放大胶，耐刻蚀保护胶，聚酰亚胺胶，全息曝光用胶，电
发布时间：2018-10-08 点击次数：189

[行业动态] 光刻加工光刻胶材料有哪些？

光刻加工光刻胶材料有哪些？大家听多了光刻机、蚀刻机以及nm工艺这样的术语，对光刻胶还是十分陌生的。买回来的硅圆片经过检查无破损后即可投入生产线上，前期可能还有各种成膜工艺，然后就进入到涂抹光刻胶环节。微影光刻工艺是一种图形影
发布时间：2019-01-25 点击次数：687

[行业动态] 光刻加工工艺的评价标准

光刻加工工艺的评价标准一个集成电路的制造过程（processflow）是由许多工艺单元（unitprocess）构成的，每一个工艺单元的输出就是下一个工艺单元的输入。工艺单元之间的衔接和整合是由工艺集成（processinte
发布时间：2019-01-25 点击次数：723

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