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随着在半导体制造技术的不断发展，光刻技术的分辨率不断缩小，光刻技术也变得越来越复杂，高昂的成本甚至连芯片制造厂商也难以承受。与此同时，纳米压印技术已经日渐成熟，它是一种全新的纳米图形复制技术，具有分辨率高、产量高、低成本的特点。
纳米压印技术(NIL)的原理比较简单，通过将刻有目标图形的掩模板压印到相应的衬底上——通常是很薄的一层聚合物膜，实现图形转移后，然后通过热或者UV光照的方法使转移的图形固化，以完成微纳加工的光刻步骤。其相对成本很低，已经在微流体，微光学系统获得了应用。（半导体蓝图(ITRS)已经将纳米压印技术列为32nm工艺的候选方案之一）
此外，由于纳米压印技术的加工成本较低，可广泛地应用于生物医学、高密度存储、光子晶体、塑料电子学、太阳能电池、传感器和高精度印刷电路板制作等，因而正在获得越来越多的关注。目前已经开始从实验室走向工业界。
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