光刻胶是纳米压印关键材料，其性能将影响压印图形复制精度、图形缺陷率和图形向 底材转移时刻蚀选择性。提出了成膜性能、硬度粘度、固化速度、界面性质、抗刻蚀能 力等压印光刻胶的性能指标。并根据工艺特点和材料成分对光刻胶分类，介绍了热压印光刻 胶、紫外压印光刻胶、步进式光刻胶和滚动压印式光刻胶的特点以及碳氧类纯有机材料、有 机氟材料、有机硅材料做压印光刻胶的优缺点。列举了热压印、紫外压印、步进压印工艺中 具有代表性的光刻胶实例，详细分析了其配方中各组分的比例和作用。介绍了可降解光刻胶 的原理。展望压印光刻胶的发展趋势。纳米压印用什么光刻胶

纳米压印是受到广泛关注的下一代光刻技术，高精度、高分辨率、廉价的特点使其很可 能成为下一代主流光刻技术，麻省理工大学的一篇评论称之为可能改变世界的十大技术之一 [1]。经过十多年的发展，压印技术被用于电子学[2,3]、生物学[4]、光学[5-7]等领域。压印技术 本身也发生了巨大变化，逐渐发展为热压印（HEL）、紫外压印（UV-NIL）和步进压印(SFIL) 以及滚动式压印（Roll to Rol）l 几大压印方式[8]。伴随着压印方式的变化，光刻胶研究也发 生了深刻的变革，由原本单一的热塑性材料发展到热固性材料、紫外固化材料；其成分也由 纯有机物质拓展至有机硅杂化材料、含氟聚合物材料[9,10]。为了满足不同条件下压印需求， 研究者合成出了很多新材料，提出了很多新配方，很大的推动了材料学发展。