硅模板  

微接触压印光刻（Microcontact－NIL） 微接触压印光刻技术要先通过光学或电子束光刻得到模版。模具材料的化学前体在 模版中固化，聚合成型后从模版中脱离，便得到了进行微接触印刷[百科 微博]所要求的模 具。常常要得到的模具是 PDMS，接着，PDMS 模具浸在含有硫醇的试剂中，然后将浸过试 剂的模具压到镀金衬底上，衬底可以为玻璃、硅、聚合物等多种形式。另外，在衬底上可以 先镀上一薄层钛层然后再镀金，以增加粘连。硫醇与金发生反应，形成自组装单分子层 SAM。 印刷后有两种工艺对其处理。一种是采用湿法刻蚀，如在氢化物溶液中，氢化物的离子促使 未被 SAM 层覆盖的金溶解，而由于 SAM 能有效地阻挡氢化物的离子，被 SAM 覆盖的金被 保留，从而将单分子层的图案转移到金上。还可以进一步以金为掩模，对未被金覆盖的地方 进行刻蚀，再次实现图案转移，另一种是在金膜上通过自组装单层的硫醇分子来链接某些有 机分子，实现自组装，如可以用此方法加工生物传感器的表面。 2.微接触印刷不但具有快速、廉价的优点，而且它还不需要洁净间的苛刻条件，甚至不需要 平整的表面，微接触印刷还适合多种不同表面，具有作用方法灵活多变的特点，该方面 缺点是在亚微米尺度，印刷时硫醇分子的扩散将影响对比度，并使印出的图形变宽。通过优 化浸液方式、浸液时间，尤其是控制好模具上试剂量及分布，可以使扩散效应下降。