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光刻加工光刻胶材料有哪些？

光刻加工光刻胶材料有哪些？大家听多了光刻机、蚀刻机以及nm工艺这样的术语，对光刻胶还是十分陌生的。买回来的硅圆片经过检查无破损后即可投入生产线上，前期可能还有各种成膜工艺，然后就进入到涂抹光刻胶环节。微影光刻工艺是一种图形影
发布时间：2019-01-25 点击次数：659

光刻加工工艺的评价标准

光刻加工工艺的评价标准一个集成电路的制造过程（processflow）是由许多工艺单元（unitprocess）构成的，每一个工艺单元的输出就是下一个工艺单元的输入。工艺单元之间的衔接和整合是由工艺集成（processinte
发布时间：2019-01-25 点击次数：672

光刻胶的选择是一个复杂的过程

光刻胶的选择是一个复杂的过程。主要的决定因素是晶圆表面对尺寸的要求。光刻BCM5325MA2KQMG胶首先须具有产生那些所要求尺寸的能力。除了这些，还须有在刻蚀过程中阻挡刻蚀的功能。在阻挡刻蚀的作用中，保持特定厚度的光刻胶层中不
发布时间：2016-07-27 点击次数：371

光刻胶的生产步骤有哪些？

光刻胶的生产步骤有哪些1、准备基质：在涂布光阻剂之前，硅片一般要进行处理，需要经过脱水烘培蒸发掉硅片表面的水分，并涂上用来增加光刻胶与硅片表面附着能力的化合物（目前应用的比较多的是六甲基乙硅氮烷（hexa-methyl-disilazane
发布时间：2016-07-27 点击次数：316

紫外纳米压印胶的分类及研究概况

紫外纳米压印胶一般由主体树脂、光引发剂、溶剂以及添加剂等四部分组成，根据主体树脂不同，紫外纳米压印光刻胶一般可分为环氧树脂、乙烯基醚、丙烯酸酯等几类。LGuo研究了一种新型的以环氧硅酮为中间体的紫外固化材料，该环氧硅酮中间体可通过加入乙酸
发布时间：2016-07-27 点击次数：1387

纳米压印设备的制作方法

纳米压印设备的制作方法背景技术：随着半导体技术及其精密零部件的不断发展，纳米级的技术应用越来越广泛，从而纳米压印设备越来越广泛的应用到各行各业。基于现在市场的需要，加上现阶段纳米压印设备结构单一，自动化程度低，模板定位不准确，压印过程中的压
发布时间：2016-07-27 点击次数：275

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