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纳米压印公司为您解析纳米压印光刻加工技术

1引言由于经济原因促使半导体业朝着不断缩小特征尺寸方向发展，随之而来的技术进步导致了设备的成本以指数增长。由于成本的增长，人们对纳米压印光刻这一低成本图形转移技术的关注越来越多。通过避免使用昂贵的光源和投影光学系统，纳米压印光
发布时间：2019-01-25 点击次数：763

纳米压印技术的热压印什么？

纳米压印技术是目前纳米沟道加工的主要技术。传统的光刻技术主要是利用电子和光子改变光刻胶的物理化学性质，进而得到相应的纳米图形。而纳米压印技术则可以在不使用电子和光子的前提下，直接利用物理学机理机械地在光刻胶上构造纳米尺寸图形。正是由
发布时间：2019-01-25 点击次数：576

微流控芯片反应器：从简单到智能

化学的使命在于创造或改良物质，而合成（synthesis）是必经之路。从中世纪的炼金术开始，人们习惯于在玻璃器皿（烧瓶、烧杯）中操纵反应原料，获得产物，并基于此建立起庞大的合成帝国。然而，面对人类对新物质、新规律的不断需求，传统玻璃
发布时间：2019-01-25 点击次数：432

中国半导体产业因光刻胶失色

我国虽然已成为世界半导体生产大国，但面板产业整体产业链仍较为落后。目前，上游电子化学品（LCD用光刻胶）几乎全部依赖进口，须加快面板产业关键核心材料基础研究与产业化进程，才能支撑我国微电子产业未来发展及“地位”的确立。彩色薄
发布时间：2019-01-25 点击次数：372

光刻加工光刻胶材料有哪些？

光刻加工光刻胶材料有哪些？大家听多了光刻机、蚀刻机以及nm工艺这样的术语，对光刻胶还是十分陌生的。买回来的硅圆片经过检查无破损后即可投入生产线上，前期可能还有各种成膜工艺，然后就进入到涂抹光刻胶环节。微影光刻工艺是一种图形影
发布时间：2019-01-25 点击次数：687

光刻加工工艺的评价标准

光刻加工工艺的评价标准一个集成电路的制造过程（processflow）是由许多工艺单元（unitprocess）构成的，每一个工艺单元的输出就是下一个工艺单元的输入。工艺单元之间的衔接和整合是由工艺集成（processinte
发布时间：2019-01-25 点击次数：723

微光学应用中的微镜压印技术

微光学对于200mm晶圆技术的需求日益增长。MEMS和半导体工业已有的工艺条件，几乎可以制作任意微光学器件的结构。微镜压印技术（SMILE）采用软质模板，在待压印材料上制作高质量的微镜阵列，待压印材料是8英寸玻璃基片上的紫外可固化聚合物待压
发布时间：2019-01-25 点击次数：314

纳米压印光刻技术的现状

纳米压印光刻技术的现状目前，大量的研究机构开展了该技术的研究工作，惠普的研究人员StanWilliams用纳米压印光刻技术做出了线宽45nm的实验存储芯片，StanWilliams是惠普实验室的量子科学研究方向的研究主任，他
发布时间：2019-01-25 点击次数：142

纳米压印中的紫外固化压印是什么？

纳米压印中的紫外固化压印是什么？紫外固化压印(UV-curableNanoimprintLithograhpy)则是目前综合优势好的压印技术，它不需要高温、高压条件，加工精度高、加工效率高、对准性好。紫外压印新的一个改进技术是步
发布时间：2018-10-12 点击次数：795

纳米压印工艺解决方案

纳米压印技术具有光学曝光的快速、大面积复制的优点，同时这种技术还具有可与电子束直写技术相比拟的纳米级分辨率。纳米压印是机械的压印过程，其分辨率不受光衍射、电子散射等限制，只取决于压印模板的图形以及压印条件。另外纳米压印成本低产量高，且操作简
发布时间：2018-10-12 点击次数：167

光刻胶是什么？光刻加工为您大揭底

光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist，又翻译为抗蚀剂、光阻等。广泛应用于集成电路(IC)，封装(Packaging)，微机电系统(MEMS)
发布时间：2018-10-08 点击次数：277

光刻加工光刻胶的特点有哪些？

光刻加工光刻胶产品特点：1.光刻胶种类齐全，可以满足多种工艺要求的用户。产品种类包含：各种厚度的紫外光刻胶（正胶或负胶），lift-off工艺用胶，LIGA用胶，图形反转胶，化学放大胶，耐刻蚀保护胶，聚酰亚胺胶，全息曝光用胶，电
发布时间：2018-10-08 点击次数：189

光刻胶理论

光刻胶定义光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist，又翻译为抗蚀剂、光阻等。因为光刻胶的作用就是作为抗刻蚀层保护衬底表面。光刻胶只是一种形象的说
发布时间：2018-09-30 点击次数：310

光刻胶使用时的注意事项

光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和很大规模集成电路的发展，更是大大帮助了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。1954年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用于印刷工业的，
发布时间：2018-09-30 点击次数：626

光栅是什么？

由大量等宽等间距的平行狭缝构成的光学器件称为光栅(grating)。一般常用的光栅是在玻璃片上刻出大量平行刻痕制成，刻痕为不透光部分，两刻痕之间的光滑部分可以透光，相当于一狭缝。精制的光栅，在1cm宽度内刻有几千条乃至上万条刻痕。这种利用透
发布时间：2018-09-27 点击次数：219

光刻加工光刻胶的主要技术参数有哪些？

光刻加工光刻胶的主要技术参数有哪些？1．灵敏度（Sensitivity）灵敏度是衡量光刻胶曝光速度的指标。光刻胶的灵敏度越高，所需的曝光剂量越小。单位：毫焦/平方厘米或mJ/cm2。2．分辨率（resolution）区别硅片表面相邻图形特征
发布时间：2018-09-27 点击次数：1198

光栅有哪些分类？

光栅种类点阵式全像立体光栅是一种新型的立体表现方式(也叫矩阵立体光栅)，它的材料、观看、制作不同于柱镜立体光栅材料和狭缝立体光栅材料，制作出来的图象可以从上下、左右看。科技含量相当高，日本、台湾有这项全套技术，主要应用于防伪，还应用到显示屏
发布时间：2017-12-14 点击次数：251

光栅的好坏用什么区鉴别？

光栅的好坏用什么区鉴别？膜材正面(光栅面)圆弧成型稳定，排列均匀，放大观察圆滑，手摸有明显凸起感,背面平整、无压痕;劣质品达不到上述标准，尤其背面手感有明显凹入压痕者，易造成粘接发虚不实、解像力差、图像眼晕眼花,为伪劣次次品。合格膜材线条成
发布时间：2017-12-14 点击次数：242

声表面波是什么？

声表面波(SAW，SurfaceAcousticWave)是沿物体表面传播的一种弹性波。声表面波是英国物理学家瑞利(Rayleigh)在19世纪80年代研究地震波的过程中偶尔发现的一种能量集中于地表面传播的声波。1965年，怀特(R.
发布时间：2017-12-14 点击次数：245

光刻加工光刻胶光刻以及显影工艺介绍

克服了普通光刻胶采用UV深宽比不足的问题，在近紫外光（365nm-400nm）范围内光吸收度很低，且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致，可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形；它还具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性；在受到紫外辐射后
发布时间：2017-12-14 点击次数：400

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