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生物芯片技术的简介

生物芯片（biochip）是指采用光导原位合成或微量点样等方法，将大量生物大分子比如核酸片段、多肽分子甚至组织切片、细胞等等生物样品有序地固化于支持物的表面，组成密集二维分子排列，然后与已标记的待测生物样品中靶分子杂交，通过特定
发布时间：2019-09-20 点击次数：197

电子束光刻和纳米压印光刻

根据德布罗意的物质波理论，电子在加速电压作用下获得极高的能量，其波长可以达到0.1埃以下，电子束斑的直径可以降至几纳米。电子束光刻利用电子束作为“光源”，电子束在电磁透镜的作用下偏转，可以在基底的光刻胶上写出自定义的图形。电子束
发布时间：2019-09-18 点击次数：292

光刻技术的原理

光刻加工（lithography）是芯片制造中的一项关键技术，也是微纳器件制备过程中必不可少的一道工艺，其目的是在晶圆（衬底）上实现芯片设计所要求的图形。Lithography源于希腊语，其中litho，grap
发布时间：2019-09-17 点击次数：243

光刻胶是光刻工艺中的关键材料

1光刻胶的灵敏度灵敏度是指单位面积上入射的使光刻胶全部发生反应的min光能量（对紫外光刻胶而言）或min电荷量（对电子束光刻胶而言）。数值越小表明灵敏度越高，曝光所需的剂量相应越小，曝光过程越快。通常负胶的灵敏度要高于正胶。灵敏度太低会影响
发布时间：2019-09-11 点击次数：331

纳米压印技术加工过程步骤

纳米压印技术分为三个步骤。第一步是模板的加工。一般使用电子束刻蚀等手段，在硅或其他衬底上加工出所需要的结构作为模板。由于电子的衍射极限远小于光子，因此可以达到远高于光刻的分辨率。第二步是图样的转移。在待加工的材料表面涂上光刻胶
发布时间：2019-09-09 点击次数：927

纳米压印技术的改进和发展

为了改善热压印中热变形的缺点，特克萨斯大学的C.G.willson和S.v.Sreenivasan开发出步进-闪光压印，这种工艺中采用对紫外透明的石英玻璃（硬模）或PDMS（软模），光阻胶采用低粘度，光固
发布时间：2019-09-06 点击次数：309

纳米压印技术简介

纳米压印技术突破了传统光刻在特征尺寸减小过程中的难题，具有分辨率高、低成本、高产率的特点。自1995年提出以来，纳米压印已经经过了14年的发展，演变出了多种压印技术，广泛应用于半导体制造、mems、生物芯片、生物医学等领域。被誉为十大改变人
发布时间：2019-09-05 点击次数：310

三种典型纳米压印技术的工艺方法及其关键技术

三种典型纳米压印技术的工艺方法及其关键技术1.热压印热压印是早开发出的纳米压印技术，相对其他技术，它也是被研究的为充分，应用的为厂泛，是目前纳米压印技术的主
发布时间：2019-09-02 点击次数：1673

微纳结构与光电器件的关系

微纳结构与光电器件的关系结合微纳光电器件的应用需求，通过数值计算和功能模拟实验，开发具有新型结构和功能的微光元件，提升微纳结构器件的光电特性和潜在应用；在分子与原子尺度上对纳米光电器件的物理化学结构、光电子传输与转换的动力学过程和机理开展研
发布时间：2019-08-30 点击次数：307

微纳结构增材制造工艺

日前，国家重点研发计划——微纳结构增材制造工艺与装备项目启动会在上海世博中心隆重召开。上海普利生机电科技有限公司(以下简称普利生)作为项目牵头单位联合东南大学、中国科学技术大学、华中科技大学、华东理工大学、南京大学、南京航空航天大学、长春理
发布时间：2019-08-29 点击次数：145

紫外压印光刻技术

紫外压印工艺是将单体涂覆的衬底和透明印章装载到对准机中,在真空环境下被固定在各自的卡盘上。当衬底和印章的光学对准完成后,开始接触压印。透过印章的紫外曝光促使压印区域的聚合物发生聚合和固化成型。与热压印技术相比,紫外压印对环境要求更低,
发布时间：2019-08-28 点击次数：364

纳米压印光刻的特点

压印本质上从本质上是一种印刷复制技术，是将模板进行大量复制的技术。压印技术加工技术根据图形尺寸的大小可分为纳米压印技术和模压技术。开始提出的纳米压印技术为热压印纳米技术和室温纳米压印技术。纳米压印是一种全新的纳米图形复制方法。流程图如图1所
发布时间：2019-08-27 点击次数：185

芯片制造关键技术——光刻技术

光刻是集成电路重要的加工工艺，在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的关键技术，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技与社会发展中，光刻技术的增长，直接关系到大型计算机的运作等高科技领域。光刻技术
发布时间：2019-08-26 点击次数：259

热压印技术

纳米热压印技术是在微纳米尺度获得并行复制结构的一种成本低而速度快的方法。该技术在高温条件下可以将印章上的结构按需复制到大的表面上,被广泛用于微纳结构加工。整个热压印过程必须在气压小于1Pa的真空环境下进行,以避免由于空气气泡的存在造成
发布时间：2019-08-22 点击次数：458

射线光刻掩模

在后光学光刻的技术中，其主要且困难的技术就是掩模制造技术，其中1：1的光刻非常困难，是妨碍技术发展的难题之一。所以说，我们认为掩模开发是对于其应用于工业发展的重要环节，也是决定成败的关键。在过去的发展中，科学家对其已经得到了巨大的发展，也有
发布时间：2019-08-19 点击次数：154

X射线光刻技术

1895年，德国物理学家伦琴首先发现了X射线，也因此获得了诺贝尔物理学奖。X射线是一种与其他粒子一样具有波粒二象性的电磁波，可以是重原子能级跃迁或着是加速电子与电磁场耦合辐射的产物。X射线的波长极短，1972年X射线被早提出用于光刻技术上，
发布时间：2019-08-16 点击次数：298

EUV光刻技术前景

在摩尔定律的规律下，以及在如今科学技术快速发展的信息时代，新一代的光刻技术就应该被选择和研究，在当前微电子行业为人关注，而在这些高新技术当中，极紫外光刻与其他技术相比又有明显的优势。极紫外光刻的分辨率至少能达到30nm以下,且更容易收到各集
发布时间：2019-08-15 点击次数：206

热压印模板要具备什么条件？

热压印模板要具备以下条件：（1）高硬度：压模和撤模的过程中不容易变形和受损；（2）低膨胀系数：避免热膨胀程度不同及高压导致的图形变形；（3）好的抗黏性能：压模时聚合物能浸润模板表面，撤模时聚合物能与基底分离。综合上述条件限制，纳
发布时间：2019-08-13 点击次数：226

光刻技术的分类

电子束光刻电子束光刻技术是微型技术加工发展的关键技术,他在纳米制造领域中起着不可替代的作用。电子束光刻主要是刻画微小的电路图，电路通常是以纳米微单位的。电子束光刻技术不需要掩膜，直接将会聚的电子束斑打在表面涂有光刻胶的衬底上。电子束光刻技术
发布时间：2019-08-12 点击次数：303

光学光刻技术

光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上，通过光的照射，光刻胶的成分发生化学反应，从而生成电路图。限制成品所能获得的小尺寸与光刻系统能获得的分辨率直接相关，而减小照射光源的波长是提高分辨率
发布时间：2019-08-09 点击次数：194

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