纳米压印技术具有光学曝光的快速、大面积复制的优点，同时这种技术还具有可与电子束直写技术相比拟的纳米级分辨率。纳米压印是机械的压印过程，其分辨率不受光衍射、电子散射等限制，只取决于压印模板的图形以及压印条件。另外纳米压印成本低产量高，且操作简单，因此这种新型的模板塑形技术有希望取代光学曝光在集成电路中的重要作用。目前在生物医学产品、超高密度存储、生物芯片、纳米光学等方向中都得到了广泛的研究。

纳米压印技术的基本原理：利用具有纳米图形的压印模板，在特定的高分子聚合物（压印胶）上通过加热、加压、紫外光照射等条件机械的将压印胶塑造成与模板上的图形相反的图形，再通过刻蚀或剥离等手段将压印胶上的图形转移到衬底上。

为了帮助广大用户解决实验中的各种问题，我们给您提供专业的纳米压印工艺解决方案，所提供的产品包括：

纳米压印模板：

标准纳米级周期性结构，如光栅、点阵、圆柱阵列等样片

Temicon纳米压印模板，如蛾眼结构减反模板、光散射结构模板等

压印胶：

热压印胶

紫外压印胶、软模材料及增附剂