光刻加工（lithography）是芯片制造中的一项关键技术，也是微纳器件制备过程中必不可少的一道工艺，其目的是在晶圆（衬底）上实现芯片设计所要求的图形。Lithography源于希腊语，其中litho，graphy的意思分别是stone，writing，开始是一种印刷的方法，用来实现图形转移。

1.紫外光刻原理

    Photo lithography（也指optical lithography或UV lithography），即借助“光”来实现图形转移。主要利用光化学反应原理把事先制备在掩模版（简称掩模，mask）上的图光刻胶形转印到晶圆上的过程。不妨理解为，需要先做出设计的图形（手型），然后借助“光”将光刻掩模版（手）的图形，按照一定比例投影到晶圆（墙）上，从而实现图形转移。

2.影响图形尺寸的因素

    影响图形尺寸的几个因素：光源，光刻版，光刻版到基片的距离等。如果采用波长更短的紫外光源，采用分辨率更高的光刻版，并且将光刻版与基片接触，便可以获得更小尺寸的图形。下图中，如若将剪纸视为光刻版，宣纸当作基片。这便是主流接触式光刻的工作方式。