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纳米压印光刻的特点

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纳米压印光刻的特点

发布日期:2019-08-27 作者: 点击:

压印本质上从本质上是一种印刷复制技术,是将模板进行大量复制的技术。压印技术加工技术根据图形尺寸的大小可分为纳米压印技术和模压技术。开始提出的纳米压印技术为热压印纳米技术和室温纳米压印技术。

纳米压印是一种全新的纳米图形复制方法。流程图如图1所示。其特点是:

高分辨率

没有光学曝光中的衍射现象和电子束曝光中的散射现象;

高产量

可以像光学曝光那样并行处理,同时制作成成百上千个器件;

高保真度

几乎无差别的讲掩模板上的图形转移到wafer上;

低成本

不像光学曝光机那样需要复制的光学系统或像电子束曝光机那样需要复杂的电磁聚焦系统

纳米压印光刻厂家

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关键词:纳米压印光刻厂家,无锡纳米压印光刻,江苏纳米压印光刻

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