纳米压印技术原理基本一致，只是工艺变得更加简单、实用和廉价。

1 三种典型纳米压印技术的工艺方法及其关键技术

1 热压印(Hot embossing)

热压印(Hot embossing)是很早开发出的纳米压印技术，相对其他技术，它也是被研究的很为充分，应用的很为广泛，是目前纳米压印技术的主流技术。

模板的制备是整个热压印过程当中很关键的一步，因为纳米压印技术的核心思想是图形的复制与转移，整个技术实现的前提是模板须具备高分辨率、稳定、可重复使用特性。目前分辨率很高的曝光技术是电子束直写曝光技术，它的分辨率可高达5nm，其过程如下：（1）涂敷聚合物：将对电子束敏感的聚合物（如PMMA）涂敷到平整的基底上；（2）制备聚合物图形：电子束按照预定的图形程序在聚合物表面扫描曝光，被曝光区域的聚合物断键或分解，溶解在特定的溶剂中。而未被扫描的区域则不溶（即显影），在基底上制备聚合物图形；（3）转移聚合物图形：经过真空蒸镀金属、剥离、反应离子刻蚀等工序，将聚合物图形转移到金属或基底上。这里的基底材料通常是SiO2。

热压印模板要具备以下条件：（1）高硬度：压模和撤模的过程中不容易变形和受损；（2）低膨胀系数：避免热膨胀程度不同及高压导致的图形变形；（3）好的抗黏性能：压模时聚合物能全都浸润模板表面，撤模时聚合物能与基底全都分离。

综合上述条件限制，热压印阶段模板通常选用Si和SiO2，抗粘层则主要使用Cr、Ni、Al，其中Ni是目前实验证明坑粘效果很好的金属保护层。

1.2 紫外固化压印(UV-curable Nanoimprint Lithograhpy)

紫外固化压印(UV-curable Nanoimprint Lithograhpy)则是目前综合优势很好的压印技术，它不需要高温、高压条件，加工精度高、加工效率高、对准性好。紫外压印很新的一个改进技术是步进-闪光压印，它可以在工艺和工具成本明显降低的情况下，在工具寿命、模具寿命、模具成本、工艺良率、产量和尺寸重现精度等方面达到和光学光刻一样甚至变好。紫外固化压印技术将是纳米压印技术的一个重要的发展方向。

3 微接触印刷(Micro-contact printing)

微接触印刷(Micro-contact printing)是哈佛大学Whitesides GM等人提出来的。它的基本思想是：用一块弹性模板和分子自组装技术，在基底表面形成自组装单分子层纳米图形结构。这种方法不但快速、廉价,而且不需要洁净间和平整的表面，适合多种不同表面，操作方法灵活多变。它还具有高质量、低成本的优点，可大面积制作简单图案，图案的很小分辨率可达35nm。