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纳米压印光刻技术的现状

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纳米压印光刻技术的现状

发布日期:2019-01-25 作者: 点击:

纳米压印光刻技术的现状 


目前,大量的研究机构开展了该技术的研究工作,惠普的研究人员Stan Williams用纳米压印光刻技术做出了线宽45nm的实验存储芯片,Stan Williams是惠普实验室的量子科学研究方向的研究主任,他说:"我们正在使用纳米压印光刻技术来稳定制作可用的、线宽为30nm的集成电路"。 


像惠普这样的研究所和大学正使用压印光刻技术制造大量的分子尺度器件,像他们在论文里所报道的试验结果所说的那样,纳米压印这一有希望的制造方法逐渐成为主流工业技术,它不仅可以制造出极微小的图形而且大大简化了许多生产过程,其成本极低,也许是光学光刻的十分之一,但是首先要发展生产准备工具和制造基础设施,并且潜在的客户也要相信压印光刻技术比其他技术具有技术和经济优势,虽然惠普的原型芯片离他们的方法产业化还很远,Williams深信纳米压印光刻技术有可能给半导体业带来革命,"我们认为这是一个很有意义的技术,这是有希望能在纳米领域制造的技术,"他说"现在没有其他技术能做出我们的电路。" 


惠普不是只一个的纳米压印的热衷者,其他五大公司--EV Group,Molecular Imprints,Nanonex如表1。Obducat以及Suss MicroTec都在致力于这项技术,他们出售压印光刻设备、还是许多其他致力于这项技术的其他方面的公司,包括模版、聚合物材料以及检测工具制造公司,虽然压印设备工业刚兴起不久,没有数据表明这个市场有多大,Molecular Imprints和Nanonex都声称已经售出大约十几台设备,其价格在十万到百万美元间。 

纳米压印光刻技术

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关键词:纳米压印光刻技术,纳米压印,纳米压印技术

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