微光学对于200mm晶圆技术的需求日益增长。MEMS和半导体工业已有的工艺条件，几乎可以制作任意微光学器件的结构。微镜压印技术（SMILE）采用软质模板，在待压印材料上制作高质量的微镜阵列，待压印材料是8英寸玻璃基片上的紫外可固化聚合物待压印材，。该技术的典型应用是手机和小型图像传感器中使用的晶圆级照相机（WLC）。微镜压印公司除了模板质量和材料特性外，准确的楔形误差校正和间距设定，对于压印光刻也是非常关键的。SVG MH-NanoMakerII设备提供了一个动态的楔形误差校正系统，它包含压电线性驱动器、高精度间距测量系统和接触力检测装置。采用可以进行亚微米级侧向和轴向对准精度的模板，我们已经实现了准确的双面微镜压印技术。

8英寸微镜模版和8英寸晶圆上压印后的微镜图形。采用MH-NanoMakerII掩模对准光刻机进行压印。
 

双面压印微镜的晶圆。采用SUSS MA8 Gen3掩模对准光刻机进行压印。

双面压印微镜的晶圆。采用MH-NanoMakerII对准光刻机进行压印。