我国半导体之殇--光刻机与光刻胶

光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂等主要成分组成的对光敏感的混合液体。在紫外光、深紫外光、电子束、离子束等光照或辐射下，进行光化学反应，经曝光、显影等过程，将所需要的微细图形从掩模版转移至待加工的衬底上，然后进行蚀刻等工艺加工，得到所需图像。

光刻胶是微制造领域重要的材料，1959年被发明以来，就成为半导体工业核心的工艺材料。光刻胶在随后的发展中被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作，是微细加工技术的关键性材料。

目前光刻胶领域基本被国外巨头公司垄断。我国主要生产PCB光刻胶。而LCD光刻胶与半导体光刻胶严重依赖进口。国产率不足2%。高分辨率的 KrF 和 ArF 光刻胶，其核心技术基本被日本企业所垄断，产品也基本出自日本，包括陶氏化学、 JSR 株式会社、信越化学、东京应化工业、 Fujifilm，以及韩国东进等企业。

下图为国内光刻胶产业划分，由图可见，LCD，芯片所用光刻胶严重依赖进口。

由于光刻胶的生产具有保密性强，生产工艺复杂的特点，而且从投入研发到生产，须要由下由企业研究新产品时一同导入才会有机会使用。否则一般企业是不会使用陌生的光刻胶。哪怕是具有知识产权，性能先进等。

因为下游企业需要对整个光刻工艺作更改，涉及的环节众多。而且光刻胶价值在整个IC价值链中所占也只有4%的份额。

属于用量少，价值高的产品。而且一旦产品质量发生问题，会造成严重后果。

2019年1月28日，台积电爆出一起事故，上万片晶圆因为使用的不合格光刻胶导

致报废。受影响客户包括苹果（ Apple ）、高通（ Qualcomm ）、 Nvidia 、 AMD 、海思、联发科等六大客户，公司也指出此事件让一季营收减少 5.5 亿美元，毛利率减少 2.6 个百分点。而台积电光刻胶供应商为日商信越、JSR等，以及美商陶氏电子（Dow Electronic Materials）等。都是世界好的的光刻胶生产商。可见光刻胶生产之复杂。