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纳米压印技术作为一种低成本,高产量的制备纳米结构的工艺近年来广受关注,而模板和压印胶之间的粘附性能是影响压印效果的一个重要因素,通过在模板表面使用低表面能的抗粘材料,不仅可以降低模板的表面能,改善脱膜效果,并且其工艺简单,操作方便,成为解决模板和压印胶之间粘连问题的主要方法。然而目前已经商品化的低表面能抗粘材料价格昂贵,制备工艺条件苛刻,保存困难,不能适应纳米压印技术大规模生产的需求。因此,开发价格相对低廉,制备工艺简单,表面性能良好的抗粘材料已经成为一种迫切的需求,对于纳米压印技术的发展具有重要的学术意义和潜在的应用价值。