微纳光学元件主要包括衍射光学元件（DOE）、光栅、微透镜阵列以及晶圆级透镜组合（WLO）等。可用在3D传 感（人脸识别）、汽车照明、AR/VR虚拟现实、手机摄像头/闪光灯、机器视觉、智能监控、汽车自动驾驶、 激光整形、医疗器械等众多领域。 使用纳米压印技术加工带有纳米级微孔、微流道的生物芯片，微纳结构紫外压印可以应用在疾病诊断（基因检测、早期癌症筛查等）、药物筛选、环境监测、食品安全、司法鉴定等领域。

纳米印压技术优势

精度高：小线宽优于50纳米；

可实现高深宽比结构的加工；

相对于MEMS工艺或精机加工，纳米压印软模板成本更低，可重复性好；

可实现晶圆级加工和封装；

可实现大面积加工（max面积12寸圆形）；

更容易集成其他MEMS工艺；

材料具有良好的光学和机械性能；

高温老化后可维持原有光学性能和结构精度。

加工参数

架构精度：优于50纳米

尺寸公差：＜±5%（对比母模具结构）

深宽比：可达10：1（取决于不同工艺）

残余层厚度：可小于10纳米（根据工艺和需求）

8英寸片内均匀性：＜±5%

max加工面积：纳米压印设备300mm直径圆形